Termal İndirgenmiş Grafen Oksit

Termal İndirgenmiş Grafen Oksit

CVD grafen iki adımda oluşturulur, karbon oluşturmak için bir malzemenin prekürsör pirolizi ve ayrışmış karbon atomları kullanılarak grafenin karbon yapısının oluşumu. İlk aşama, ayrıştırılmış karbon atomlarına piroliz, gaz fazı sırasında karbon kümelerinin (kurum) çökelmesini önlemek için substratın yüzeyinde yapılmalıdır. Bununla ilgili sorun, öncüllerin pirolitik ayrışmasının aşırı ısı seviyeleri gerektirmesidir ve bu nedenle reaksiyon sıcaklığını azaltmak için metal katalizörler kullanılmalıdır.

Açıklama

İçerik Özellikleri
Kristal Yapı İndirgenmiş Grafen Oksit
Faz Nanotoz
Yoğunluk 0.2-0.3 (G/CM3)
C:O Atomik Oranı >8
Katman Sayısı 3-6
Özgül Yüzey Alanı 450-650 (M2/G)
Ambalaj Özellikleri
Kap Cam Şişe
Kapak PTFE

Yazar hakkında

profesör administrator

Yorum yapabilmek için giriş yapmalısınız.